根据媒体在近期报道,上海微电子传来了好消息,将于明年开始交付国内首台28nm浸没式光刻机,虽然相比于荷兰ASML高端光刻机,上海微电子28nm光刻机在制程工艺上还有着很大的缺陷,但是从此前仅生产90nm光刻机到当前一跃进入28nm工艺,上海微电子成功研发出国产光刻机对于庞大的芯片产业有着重要的意义。
除了光刻机和蚀刻机之外,离子注入机的成功研发则是第三大捷报。据悉,中国电子科技集团宣布,该集团旗下电科装备自主研制的高能离子注入机成功,实现百万电子伏特高能离子加速,性能达到国际先进水平。因此,三大芯片制造设备的成功研发也标志着,中国芯在未来将发光发热。